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第四十二章 1号试验车间

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    章仲谋也很满足。

    他怀揣着莫世文设计的天工半导体厂区规划图,踌躇满志的回到了台南。

    美利坚那边的晶圆厂,依然备受关注。

    刺探生产线商业秘密的有,但释放善意,谈合作谈交流的更多。

    对此,章仲谋早就嘱咐自己的团队,最好的应对方式,只有一个字……拖。

    产能摆在那儿,也无需遮掩。

    所以,没必要的罪人,商业上的东西,除非必要,还是要以利益为先的。

    人脉和资源其实就是这样,在你来我往中逐渐形成的。

    他不会把人拒之门外,也不会去吃独食,他懂得如何把蛋糕做大,再分而食之的道理。

    这,也是莫非当初看重他的原因之一。

    因为他这人,有足够的自知之明。

    既分得清大势所趋,又可以很理性的,去分析利益链条中的孰优孰劣。

    章仲谋不知道莫非开挂了,但不妨碍他对于莫非和莫世文的心存敬畏。

    他不会忘记自己看到规划图的那一刻,心里是如何的震撼。

    也不会忘记,当初看到研究院与试验性车间科技园区的规模时,感受到的那份野心。

    那种热火朝天极具活力的工地建设,与图纸给予自己迫不及待,想要去开创一番事业的冲动。

    是两种截然不同,却又殊途同归的心灵冲击。

    或许,这就是梦想中的追求吧!

    章仲谋只能这样在心里感叹。

    莫非告诉过他。

    天工半导体总厂,将会使用全新的生产线设备。

    从制程工艺,再到精度、效率的提升,都会有全方位拉高。

    一句话,良品率会提高,成本会下降,相应的市场竞争力,也就随之显而易见了。

    而且,一期规划就是四条生产线。

    这与美利坚的晶圆厂相比,这可不是简单的规模翻一倍,就可以形容的。

    所以,他心满意足了,还颇有些踌躇满志的期待感。

    而下一步,就要调动人马了。

    既要撤回几个团队里的大部分人手,还要从台南,重新招募一批工人,派去美利坚的晶圆厂,熟悉各种工位的在职培训。

    虽然是千头万绪,但他却依然乐在其中……

    事情也一如他所料,与台南这边的最终协商,并没有出现太大的波折与意外。

    一方面,是因为大体的谈判框架,已经谈的差不多了,剩下的细枝末节,协调起来也比较容易;

    另一方面,也是因为天工半导体,算是工业园落地的第一个大型项目。

    而且章仲谋带来的技术,代表的,就是世界上最先进的科技。

    行政院不惜代价把它引进来,也算是千金买马骨了。

    至于章仲谋按照莫非图纸规划,提出的大面积厂区需求,行政院经过再三讨论,还是给予了通过。

    台南的土地,可不像香江那样的奇缺。

    他们缺的是一流的技术。

    正所谓栽下梧桐树,才能引来金凤凰。

    在这一点上,这些人的眼光还算是看得长远。

    当然了,还是那句话,香江的总督府,也只是揣着明白装糊涂而已。

    性质不一样嘛,这其实无可厚非。

    所有手续齐备,章仲谋也就开始拿出所有精力,全力以赴扑在了基建上。

    随着一些事情发生,这也让章仲谋,再次看到了莫非那份高瞻远瞩的目光。

    他不知道莫非与莫世文两个人,究竟谁才是真正的主导,甚至他们背后是否另有其人,他也不知道。

    但这些都不需要他去了解。

    他只需要知道,人家就是有这份远见与格局,那就足够了。

    自己已经抱上了大腿,这就是最好的证明……

    于是,他特意叮嘱自己团队里的所有人员,两耳不闻窗外事,一心专注搞建设,守好自己的地盘,就是最大的成功。

    其余的,一切都是浮云。

    …………

    莫非的生活,丝毫没有受到影响。

    他一直有条不序的,过的有滋有味。

    “啧啧,这就是传说中的无尘车间啊,感觉也就那么回事儿啊,没什么惊喜度。”

    站在庞大的1号试验车间里。

    莫非砸吧着嘴,一脸“看起来也就那样”的傲娇。

    当然了,这只是工业洁净室。

    控制的对象,也只是无生命的微粒,对操作对象的污染。

    只适用于精密工业、电子工业、化学工业以及航空航天工业等。

    要求的是对温度、湿度、风速、流场、洁净度等参数的控制。

    一般只要保持正压,不影响产品的质量、精度和纯度就可以了。

    而生物洁净室则不一样。

    它控制的是有生命微粒,比如单细胞藻类、菌类、原生动物、细菌和病毒等。

    需要防止它们对工作对象的污染。

    适用于食品、制药、医疗设施、化妆品的生产等。

    当然了,相对于一般的生物洁净室,还有一种生物安全洁净室。

    它对室内要求的静压,比周围环境低一定数值,施工难度更大,安全度要求也更高。

    比如无菌手术室、药品以及疫苗制备等高标准环境。

    这些暂且抛开不说。

    单说工业洁净室,要求也不只是程度上的标准,其实也近乎于苛刻。

    防尘、防火、保温、抗静电都需要达到一定规格;

    装修材料更别说了,不但要耐化学性、耐氧化性、防滑、防菌,还需要一些高级装料,比如装饰面板等。

    自流平的地面处理,缝隙部位的密封处理,送风的滤网系统,顶部的密封盲板,四周的防静电垂帘,都需要达到局部对洁净度的高标准。

    后世的无尘车间的洁净度。

    按标准分为六级,从1级、10级、100级,一直到最普通的10万级。

    什么意思呢,其实指的就是每立方米内,尘粒、微生物、浮游菌数的最大允许数,还包括多大微米的粒子数不超过多少个。

    比如万级无尘车间,就规定每立方米内,微生物和浮游菌数,最多不能超过500;大于5微米的尘粒数,最多不能超过2万;大于0·5微米的尘粒数,最多不能超过350万。

    这种车间,也就是我们常说的C级车间。

    可用来装备液压设备或挤压设备,食品饮料等。

    进出必须穿长袍无尘衣、无尘鞋、戴帽子与面罩。

    100级无尘车间的规格,则要求每立方米内,微生物和浮游菌数,不能超过5个;大于5微米的尘粒数不能存在;大于0·5微米的尘粒数,最多不能超过3500个。

    这也是我们后世中,最常见的A级无尘车间。

    一般用于医药工业的无菌制造,尖端光学产品的生产,或者顶尖的外科手术以及术后隔离上。

    进出需要穿戴特殊的洁净连体衣和无尘鞋,将全身裹住,并戴上手套和面罩。

    而1级的无尘车间,已经不允许有1微米以上的尘粒了。

    这种车间,多用于集成电路的微电子工业,可以满足精确到亚微米的需求。

    但是事实上,10级的无尘车间,也能满足线宽小于2微米的半导体工业需求。

    莫世文规划的这座试验性科技园区。

    涵盖了从万级到1级的好几个类别。

    为的就是一步到位,省却有需要时临时抱佛脚的麻烦。

    比如在明年的规划里。

    汽车发动机的制造与组装、特种合金的材料制备、超高分子量聚乙烯纤维和碳纤维的工艺生产制备试验等。

    都离不开这样标准的车间。

    “昌明工业大厦那边的所有东西,都在这里了?”

    莫非看着车间内无数的机床设备和实验仪器,感觉有些眼花缭乱的。

    “一部分在这里,还有一部分并没有拿出来。”

    莫世文这样一说,莫非也就瞬间明白了。

    的确,有好多东西,还是暂时无法曝光的。

    只能等盘古研究院的五行楼交付使用之后,莫世文有了真正的独立实验室,才能肆无忌惮的大展拳脚。

    而现在的1号试验车间,是准备用来为天工半导体打造芯片生产线的。

    到时候,会有不少的工程师入驻。

    按照当初周崇华在美利坚招聘时签署的合约,这些人,大多数是要在元旦后才会来香江的。

    而正式的大规模招聘,莫非还是决定放在研究院正式启用之前。

    否则,还真的很难安排如何分工。

    当然了,这些事情也不需要他来操心。

    商务上有周崇华和他的团队负责,研发上有莫世文在统筹安排,哪一个都比他强了不止一筹。

    而他,也乐的站在背后指点江山。

    现在这样一内一外的局势,很完善也很和谐。

    内部掌握核心技术,进而推陈出新,更迭换代,专注于项目研发。

    至于需要的外购件以及完善的技术专利,则交给外部去操作。

    泾渭分明且配合默契,绝对的相得益彰。

    比如这次需要打造的芯片生产线,也有很多零部件需要外购,世界上没有哪一家公司,可以做到全覆盖上中下游所有产业链的。

    哪怕一个国家,有时候都不行。

    就拿光刻机来说吧,其实它说白了就是一台超、超、超高精密度的照相机,能把设计好的电路投影到硅片上。

    所谓的光刻机构件。

    也不外乎是对准器与正负性光刻胶等。

    但是它的发展,却一直在求新求变。

    从60年代的触式和接近式,到70年代的投影式,再到80年代步进式,甚至新世纪的浸入式以及EUV。

    都可以写一本小说了。

    光刻机的重要性毋庸置疑,各国也一直在持续投入研发光刻技术。

    1978年,美利坚的GCA公司,花费500万美元的巨资,终于开发出了光学图形发生器和分步重复精缩机。

    成功研制出了全球第一台,分步重复投影曝光机Mann4800DSW。

    将线宽从1·5微米,缩小到了0·5微米节点。

    它用的,是波长436纳米的G线,作为曝光光源,CarlZeiss的S-Planar10/0·28镜头,进行10:1的缩小比例曝光。

    可以对10毫米乘以10毫米的区域进行曝光,分辨率可达1微米。

    售价45万美元。

    相对于之前市场上,那些接触式或接近式的设备,GCA的Mann4800DSW可以说是革命性的。

    它不但改变了对准器对晶圆造成的污染,还利用分步重复的大覆盖面,进一步提高了产品的良品率。

    但是,它有一个很致命的缺陷,那就是吞吐量太低。

    致使生产效率无法提高。

    所以,莫非想要的,是新一代步进扫描式投影曝光机。

    将光源技术、物镜技术,以及后来的精密工作台的制造技术,全部攥到手里。

    至于普通的零部件,满世界有的是商家提供。

    不但能货比三家,还可以随时有备胎可以选择。

    这才是理想中的形势。

    他想尝试一下,看看自己是不是比老美更牛逼。

    在光刻机领域内,后世的阿斯麦够牛吧,在高端市场上一统江山,无人能出其右,要多风光有多风光。

    但是,仔细分析一下,你就会发现。

    阿斯麦的风光,基础并不那么牢靠。

    它算得上是一个集大成者的企业,却绝不是一家,可以俯瞰芸芸众生的企业。

    因为他自己掌握的核心技术,只有百分之几。

    而EUV光刻机的核心技术,集中在哪方面上呢?

    答案是德意志蔡司的高精度镜头,同样来自于德意志的精密工作台制造技术,以及2012年收购的Cymer的光源激光技术。

    当然了,还有一个方面。

    那就是EUV的很多专利,其实都在EUVLLC联盟手里。

    而这个联盟是由谁组成的呢?

    答案还是美利坚。

    其成员包括英特尔、美利坚能源部、摩托罗拉、AMD、美利坚的三大国家实验室劳伦斯利弗莫尔实验室、劳伦斯伯克利实验室、桑迪亚国家实验室……

    最后才是阿斯麦。

    这样看来,阿斯麦,倒是像极了一个被推到前台的傀儡。

    所以,阿斯麦算是应运而生。

    为什么这么说呢,就是因为它崛起的时机太好了。